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雙面拋光機(jī)設(shè)備主要技術(shù)性能时间:2020-01-30 作者:ryokyu-web.net【原创】 阅读 雙面拋光機(jī)設(shè)備應(yīng)用范圍 雙面拋光機(jī)設(shè)備主要適用于硅片、石英晶片、光學(xué)晶體、玻璃、寶石、鈮酸鋰、砷化鎵、陶瓷片等薄脆金屬或非金屬的研磨或拋光。 雙面拋光機(jī)主要特點(diǎn) 1、平面研磨機(jī)采用四動(dòng)拋光原理;二電機(jī)分別拖動(dòng)上下拋盤(pán)、太陽(yáng)輪、內(nèi)齒圈;雙面拋光機(jī)的PLC調(diào)整設(shè)定控制;彩色NT顯示的人機(jī)界面系統(tǒng); 2、雙面拋光機(jī)的龍門(mén)箱形結(jié)構(gòu),配置大功率減速系統(tǒng),軟啟動(dòng)、軟停止,運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),拋光時(shí)間根據(jù)計(jì)時(shí)器可隨意設(shè)定,雙面拋光機(jī)采用了自動(dòng)供給拋光液裝置; 3、拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進(jìn)行了特殊處理; 4、雙面拋光機(jī)通過(guò)精密稱重傳感器與高精密的氣動(dòng)控制系統(tǒng)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)了壓力閉環(huán)反饋控制,確保了工件壓力的準(zhǔn)確性; 5、雙面拋光機(jī)主要采用了強(qiáng)制集中潤(rùn)滑; 6、雙面拋光機(jī)的拋光液系統(tǒng)具有獨(dú)立攪拌、循環(huán)水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測(cè)功能,各功能可選配制做。 雙面拋光機(jī)技術(shù)參數(shù) 1、拋光拖動(dòng)電機(jī):5.5KW 380V 1440rpm; 2、太陽(yáng)輪拖動(dòng)電機(jī):2.2KW 380V 1440rpm; 3、上拋盤(pán)規(guī)格:φ630mm×φ240mm×30mm; 4、下拋盤(pán)規(guī)格:φ630mm×φ240mm×30mm; 5、游輪參數(shù):公制Z=114 M=2; 6、游輪數(shù)量:5片; 7、最小拋光厚度:0.4mm/φ75mm; 8、最大拋光厚度:100mm; 9、下拋盤(pán)轉(zhuǎn)速范圍:0—50rpm; 10、需配備空氣源壓力:0.5—0.6Mpa; 11、下拋盤(pán)的端面跳動(dòng)量:≤0.04mm; 12、下拋盤(pán)的平面度:0.015 mm; 13、雙面拋光機(jī)設(shè)備外形尺寸:(長(zhǎng)×寬×高)1400mm×1200mm×2400mm; 14、 雙面拋光機(jī)重量: 約2800kg; 15、 雙面拋光機(jī)承片量:?jiǎn)伪P(pán):4片/φ75 mm、3片/φ100 mm 5盤(pán):20片/φ75 mm、15片/φ100 mm。 |
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