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平面研磨拋光設(shè)備生產(chǎn)工藝流程时间：2020-09-26 作者：kas韜【原创】 阅读 平面研磨拋光設(shè)備生產(chǎn)工藝流程 平面研磨拋光設(shè)備大致有以下7種生產(chǎn)工藝流程，每個(gè)流程都有控制精度要求，每個(gè)環(huán)節(jié)都必不可少，少一樣都是能決定精度的好與壞。 1、平面研磨拋光設(shè)備平整度： 工件的平整度取決于磨盤的平整度，隨著加工領(lǐng)域的不斷深化及精度和效率要求越來越高：從鑄鐵盤、合成盤、銅盤、純錫盤、樹脂盤發(fā)展到金剛石盤，并通過各種方法把盤的平面訂修到達(dá)1um。
2、平面研磨拋光設(shè)備粗糙度： 表面粗糙度取決于磨料顆粒的大小、形狀和磨盤的材料， 以及工件材質(zhì)及硬度。 3、平面研磨拋光機(jī)粗磨： 利用較粗顆粒度的磨料在磨盤與工件面上磨削，進(jìn)刀量大、效率高;但磨削面較粗，適用于磨削余量較多之工作。 4、平面研磨拋光機(jī)中磨： 利用中度顆粒的磨料在磨盤與工件面上磨削，進(jìn)刀量快、效率高，表面粗糙度適中，適合磨削量一般之工件。 5、平面研磨拋光設(shè)備精磨： 利用較細(xì)顆粒度的磨料在磨盤中與工件面上磨削，進(jìn)刀量較小、表面光潔度好，磨削痕均勻而細(xì)。 6、平面研磨拋光機(jī)軟拋光： 利用磨盤上加裝一個(gè)特殊材料拋光墊或拋光布，拋光料在拋光墊或拋光布之間運(yùn)動(dòng)，使工件比硬拋光更有超鏡子一樣的高光潔度。 7、平面研磨拋光設(shè)備硬拋光： 利用合成盤、銅盤、錫盤、樹脂盤等非常高精密度的基面加入微米級(jí)金剛石磨料，使工件表面變得既高精密平面度，又有像鏡子一樣的高光潔度。 |
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