拋光雙面機設(shè)備應(yīng)用范圍領(lǐng)域及特點

拋光雙面機可對各類半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體硅片、晶體材料、陶瓷、磁性材料、硬質(zhì)合金、不銹鋼、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料及其它硬脆材料等實現(xiàn)穩(wěn)定的高精度雙面拋光加工。

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拋光雙面機主要特點

1、拋光雙面機采用四動拋光原理；二電機分別拖動上下拋盤、太陽輪、內(nèi)齒圈；PLC調(diào)整設(shè)定控制；彩色NT顯示的人機界面系統(tǒng)。

2、 平面拋光機是龍門箱形結(jié)構(gòu)，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，拋光時間根據(jù)計時器可隨意設(shè)定，采用了自動供給拋光液裝置。

3、 與拋光液接觸的零部件選用了防腐材料或表面進(jìn)行了特殊處理。

4、 通過精密稱重傳感器與高精密的氣動控制系統(tǒng)聯(lián)合實現(xiàn)了壓力閉環(huán)反饋控制，確保了工件壓力的準(zhǔn)確性。

5、 拋光雙面機主要運動副采用了強制集中潤滑。

6、 雙面拋光機的拋光液系統(tǒng)具有獨立攪拌、循環(huán)水冷卻、拋光液加熱以及拋光液溫度檢測功能，各功能可選配制做。

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